射線源是X射線工業(yè)CT 設備的核心組件之一，其性能直接決定了檢測質(zhì)量和效率。在采購工業(yè)CT系統(tǒng)時，如何根據(jù)需求選擇合適的射線源至關(guān)重要。在當前市場上，常見的X射線源主要結(jié)構(gòu)區(qū)別有2個方面：「閉管和開管」、「反射靶和透射靶」。

              從密封方式分類，X射線管分為開放式和封閉式兩種。開放式在使用過程中，需要對射線管抽真空并保持真空度，管內(nèi)的陰極和陽極是可以更換的；封閉式射線管提前將真空抽到一定程度后密封，在使用過程中無需再次抽真空，當然管內(nèi)的陰極和陽極也是無法更換的。

閉管

              閉管X射線源屬于密閉式射線管，它通常將陰極、陽極和聚焦系統(tǒng)等部件集成在一個密封的真空腔體內(nèi)，這種設計使得閉管X射線源具有更高的穩(wěn)定性和較好的耐用性。閉管X射線源通常有透射式和反射式射線靶兩種結(jié)構(gòu)。由于結(jié)構(gòu)封閉，閉管X射線源對于外部環(huán)境的適應性更強，能夠在較惡劣的條件下穩(wěn)定工作。此外，閉管X射線源通常具有更小的體積和更輕的重量，比較適用于緊湊型的應用場景。

但需要特別指出的是，正因為結(jié)構(gòu)封閉等方面的原因，閉管射線源的功率較小，射線焦點也做不到很小，不能滿足高穿透性、高分辨率的應用場景。

            透射式靶是一層薄膜，其靶面與入射電子束垂直。這種設計可以獲得更小的焦點尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場景，例如：材料科學中的微焦點X射線成像，采用透射式靶可用于研究材料的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷。

反射靶

             反射式靶的特點在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度。這種設計具有較大的散熱體積，因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優(yōu)勢在于能夠獲得更高的電子能量，從而產(chǎn)生更強的X射線輻射。這對于需要高能量成像的應用場景非常重要，例如：汽車工業(yè)：檢測電子組件、電子控制單元、微型機械裝置、插頭和壓接件、電池盒等。航空航天領(lǐng)域：檢測機械組件（如閥或襟翼制動器）、環(huán)向電子束焊焊縫、轉(zhuǎn)子葉片、渦輪葉片、飛機渦輪、電子組裝、小型鈦和鋁鑄件、復合材料等。